中微半导体今日申购

科创板首批挂牌企业陆续公布发行定价，相比过去新股不超过23倍的发行市盈率，这些科创板新股的超高市盈率引人注目。其中，中微半导体设备（上海）股份有限公司（688012，中微公司，又称中微半导体）以扣非后148.79倍、扣非前170.75倍的市盈率，创出科创板新股发行估值纪录。

7月8日晚间，中微半导体发布公告称，本次在科创板上市，首次公开发行5348.62万股，根据初步询价结果，确定本次发行价格为29.01元/股，对应市盈率为170.75倍，市销率为9.47倍。根据发行安排，中微公司于7月10日9：30起进行申购，网上申购代码为787012.

本次募投项目主要用于以下项目：高端半导体设备扩产升级项目、技术研发中心建设升级项目、补充流动资金。

中微半导体设备有限公司成立于2004年5月31日，是一家以中国为基地、面向全球的高端半导体设备公司，是我国集成电路设备行业的领军企业，其产品在电容性等离子刻蚀设备、电感性等离子刻蚀设备和 MOCVD设备领域达到国际领先技术水平。

点评：半导体核心装备 国产化替代曙光

营业收入高速增长，在手订单持续上升。

根据招股说明书，中微公司营业收入保持高增长，从2016年的6.10亿元增长至2018年的16.39亿元，年均复合增长率达64%。同时，公司预计2019年1-6月实现营收入7.2亿元~8.6亿元，同比增长55%~85%。预计实现扣非后归母净利润为2200万元~2600万元，较2018年1-6月同比数据的-4801.28万元实现由负转正。

随着晶圆厂设备采购期到来以及 Prismo A7型号MOCVD成功量产，MOCVD设备和刻蚀设备的在手订单持续增多，截止到 2018年末，中微半导体在手订单金额达 15.9亿元。

自主研发持续推进，政府补助大力支持。

2016-2018年，中微半导体的累计研发投入为10.4亿元，约占营业收入的32%。2018年政府补助高达1.7亿元，占营业收入的10%。从2017年开始，14-7纳米介质刻蚀机、高端MEMS等离子体刻蚀设备、高温高产能MOCVD设备等已经满足资本化条件。

从介质刻蚀切入市场，双反应台铸就效率优势。

中微半导体成立时正赶上金属刻蚀设备的需求日益萎缩，因此，公司决定从介质刻蚀设备切入市场。中微半导体通过在刻蚀设备中运用双反应台高产出率技术，使得其在生产效率和设备成本方面有较大的优势，从而迅速抢占了被国际巨头垄断的市场份额。

打破国际巨头垄断，Prismo A7势如破竹。

2016年以前，MOCVD的市场份额长期由维易科和爱思强占据，随着2017年中微半导体成功推出Prismo A7型号的LED MOCVD设备，国外厂商的垄断优势被逐渐打破，2017-2018年，中微半导体MOCVD设备的销售数量分别为57腔和106腔，同比增速分别为3304.7%和56.9%。根据IHS Markit 统计，2018年中微半导体的MOCVD占据全球氮化镓基LED MOCVD新增市场的41%。

公司亮点

(1)中微半导体拥有技术型管理团队，其创始人尹志尧、杜志游、麦仕义、倪图强、杨伟等在英特尔、应用材料和拉姆研究等国际领先企业有着几十年的工作经验，有着极强的研发、管理、销售能力。

(2)中微半导体受国家大力支持，其第一大股东是上海芯片产业基金，第二大股东巽鑫投资由大基金100%控股。

(3)中微半导体的刻蚀设备达到国际领先技术水平，先后与SK海力士、台积电、格罗方德、博世等国际一流厂商展开合作。

(4)中微半导体的LED

MOCVD通过以价换量策略和双反应台技术迅速切入市场，打破了爱思强和维易科的垄断。

关于公司未来的整体发展战略，中微半导体在公开路演时表示，中微公司目前开发的产品以半导体前道生产的等离子体刻蚀设备、薄膜沉积等关键设备为主，并已逐步开发后道先进封装、MEMS、LED、Mini LED、Micro LED等泛半导体设备产品。未来，结合良性的内生成长，公司在适当时机将通过并购等外延式成长途径扩大产品和市场覆盖，并将继续探索核心技术在国计民生中创新性的应用。

中微公司将围绕自身核心竞争力，通过自主创新、有机生长，结合适当的兼并收购策略，不断推动企业健康发展，力争在未来十年内发展成为国际一流的半导体设备公司。

盈利预测与估值。

证券机构认为中微是高研发投入的公司，考虑到利润可能因为研发高投入而较难释放，销售收入增长更能反映企业的价值。所以，采用市销率(PS)估值可能更为合适。中微公司业务范畴与北方华创比较接近，但本次发行估值PE、PS均超过北方华创。

公司后续能否取得业务突破和持续增长，拭目以待。